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이 날 행사에는 수상자 외 SK하이닉스 미래기술연구원담당 김진국 부사장, 지속경영담당 신승국 전무, 특허담당 민경현 상무 등이 참석했다.
SK하이닉스는 산학협력 연구자의 사기 진작과 우수특허 개발 장려를 위해 2013년부터 매년 포상을 진행하고 있다. SK하이닉스 이석희 대표이사 또한 KAIST 교수 재직 시절 출원한 특허로 제1회 포상에서 최우수상을 받은 바 있다.
올해는 최우수상에는 KAIST 조규형 교수, 우수상에 한양대 박철진 교수, 장려상에 포항공대 김재준 교수, 고려대 김선욱 교수, KAIST 박인철 교수가 선정됐다.
최우수상으로 선정된 KAIST 조규형 교수의 ‘기준 전압 생성 회로’에 대한 특허는 반도체 회로에 사용되는 여러 종류의 전압이 공통으로 사용할 수 있는 기준 전압을 생성해 저전력 특성을 강화하는 기술로, 실제 제품에 적용할 수 있는 가능성이 크다는 점에서 좋은 평가를 받았다.
SK하이닉스 미래기술연구원담당 김진국 부사장은 “우리나라 반도체 기술력이 세계 최고 수준에 이를 수 있게 된 것은 학계가 함께 힘써주신 덕분이다. 향후에도 회사와 학계가 더불어 발전할 수 있도록 노력하겠다”며 수상자들을 격려했다.
